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星屋 泰二; 田昭 治*; 安藤 弘栄
日本金属学会誌, 56(7), p.741 - 746, 1992/00
中性子照射したTi-Ni系形状記憶合金の673K以下の温度における高温変形挙動さらには照射後に473,523,573Kで焼鈍した際の変形挙動を引張試験及び硬度試験を用いて調べた。中性子照射によって照射誘起超弾性など特異な変形挙動が生じた。これらは523K以上の温度における照射後焼鈍によって完全に回復した。この原因としては、照射によって生成した空孔などの欠陥移動が熱振動で助長され規則化過程を促進するためである。照射中のTi-Ni系形状記憶合金では、二つの相反する過程が競合して起きる。すなわち、照射誘起不規則と空孔移動によって促進される規則化である。これらの過程は照射温度と照射フルエンスに依存する。
白石 健介; 深谷 清; 片野 吉男
Journal of Nuclear Materials, 44(2), p.228 - 238, 1972/02
被引用回数:27中性子照射(高速中性子量:8.210n/cm,照射温度:約200C)したバナジウムの室温における機械的性質の変化を、照射と照射後の熱処理による電子顕微組織の変化と関連して、調べた。照射後400C以下の温度で熱処理した試料を室温で引っ張るとdislocation channelingsが観られる。このdislocation channelingsは10ヶ/cmのオーダーの密度の小さな転位ループをもった試料に認められる。照射後180~600Cの温度で熱処理をした試料は硬化するが、これはバナジウム中に不純物として含まれている酸素の集合体と関係していると考えられる。照射によって生じたこれらの硬化は700C、1時間の熱処理によってほぼ照射前の状態に回復する。